超高精細モールド

    従来の露光技術とは異なり、微細な凹凸のある原版を樹脂などに押し付けて型の形状を転写する微細加工技術を「ナノインプリント」と呼びます。この技術は、半導体、記録メディア、光学素子、ディスプレイ、バイオなどの産業領域において、革新的な技術として注目されています。
    DNPでは半導体用フォトマスク製造で培った高精度のパターン形成技術を用いて、ご所望の仕様に合わせたモールドを提供いたします。
    [右写真] 65mm×65mm、厚さ6.35mm モールドの例
    パターン領域は約10mm x 10mm
    超高精細モールド 65mm×65mm、厚さ6.35mm モールドの例

最小寸法 標準200nm〜50nm
パターン領域 標準5mm x 5mm 〜10mm x 10mm
掘り込み深さ 標準100nm
基板材料 合成石英
基板サイズ 152mm×152mm/6.35mm厚からの切り出し
お問い合わせ先 大日本印刷株式会社 ファインオプトロニクス事業部

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