DNP 大日本印刷

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ニュースリリース

2012年02月01日

 

半導体用フォトマスク製造の電力消費を大幅に削減

「省エネ大賞」の「審査委員会特別賞」を受賞

 

大日本印刷株式会社(本社:東京 社長:北島義俊 資本金:1,144億円 以下:DNP)は、上福岡工場(埼玉県ふじみ野市)のフォトマスク生産ラインのレーザー描画工程向けに省エネルギーシステムを開発し、消費電力量の大幅削減を実現しました。この取り組みが評価され、財団法人省エネルギーセンターが主催する平成23年度「省エネ大賞」*の「省エネ事例部門・審査委員会特別賞」を受賞しました。

【開発の背景】

DNPの上福岡工場では、シリコン基板に半導体回路を形成する際の原版となるフォトマスクを生産しています。フォトマスクは、フォトリソグラフィ技術により、レーザーまたは電子ビームを用いて微細な半導体回路のパターンを描画します。今回DNPは、このフォトマスク生産のレーザー描画工程において大量の電力を消費していることに着目し、当工程の消費電力量の削減に取り組みました。その結果、描画装置の電力使用量を見える化し、描画処理を行っていない待機時の電流を必要な下限値まで下げることにより、年間消費電力量の6%削減を達成しました。また、4回レーザー描画を繰り返していた工程に、装置メーカーが開発した2回の描画で4回と同等のパターン形成を実現する2重描画システムを導入することにより電力原単位で42%の削減を実現しました。

【省エネシステムの概要】

1. 待機時の電力削減システム

半導体の回路パターンは極めて高精細であるため、フォトマスクに描画するレーザーの光軸を高精度に調整する必要があり、これまでは新しいマスクへの切り替えなど描画処理を行っていない待機中においても、描画処理時と同等の電流値を維持する必要があると考えられていました。今回、切り替え調整などの待機時に必要な最低限の電流値を算定し、自動的にその値まで電流を下げ、描画を開始する際には精度調整に影響しないようコントロールするシステムを開発し、これにより、年間消費電力量を6%削減することができました。

2. 2重描画システム

これまで、微細な回路パターンを描画するには、レーザー描画を4回繰り返す必要がありました。今回、装置メーカーにより新開発された4回の描画と同等のパターンを2回の描画で実現する2重描画システムを他社に先駆けて導入しました。この描画システムは、4回の描画と比較して若干精度が劣るものの、解像力には問題がないことから、特に難易度の高いハイエンド品以外の大半の製品の要求仕様を満たしています。さらに、描画時間の半減により半導体メーカーからの短納期の要求にも対応できる合理的なシステムです。

本システムの利用により、電力原単位で42%の削減を実現しました。

【今後の展開】

DNPは、2重描画システムの特長を半導体メーカーへ訴求し、さまざまなフォトマスク品種向けに生産適用認定を拡大していきます。また、今回開発した省エネシステムをDNPの他のフォトマスク生産工場に応用するとともに、省エネ活動に継続して取り組んでいきます。

*省エネ大賞 :
企業・自治体・教育機関等における優れた省エネ活動や、技術開発等による先進型省エネ製品等を表彰するもの。
 
※ニュースリリースに記載された製品の価格、仕様、サービス内容などは発表日現在のものです。その後予告なしに変更されることがありますので、あらかじめご了承下さい。
 
 
 
 

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