微細加工技術「ナノインプリント」

超高精細モールド

基材上の樹脂などに金型を圧着して、nm(ナノメートル)からμm(マイクロメートル)単位のパターンを安定的に転写する微細加工技術

DNPの超高精細モールド

従来の露光技術とは異なり、微細な凹凸のある原版を樹脂などに押し付けて型の形状を転写する微細加工技術を「ナノインプリント」と呼びます。この技術は、半導体、記録メディア、光学素子、ディスプレイ、バイオなどの産業領域において、革新的な技術として注目されています。DNPでは半導体用フォトマスク製造で培った高精度のパターン形成技術を用いて、ご所望の仕様に合わせたモールドを提供いたします。

[写真]65mm×65mm、厚さ6.35mm モールドの例
パターン領域は約10mm×10mm

標準仕様

最小寸法
標準200mm~50mm
パターン領域
標準5mm×5mm~10mm×10mm
掘り込み深さ
標準100mm
基板材料
合成石英
基板サイズ
152mm×152mm/6.35mm厚からの切り出し