AIサーバー向け高速・高周波基板に1~5μm領域まで対応する極薄・高周波対応銅箔
DNP高周波対応マイクロエッチング銅箔
DNP高周波対応マイクロエッチング銅箔は、独自のウェットエッチング技術により、厚みと表面粗さを精密に制御した高機能銅箔です。 用途に応じて厚みと表面粗さを最適化し、 1〜5μm厚の極薄銅箔もご提供。 高周波基板で課題となる伝送損失を抑えながら、被着体との高い密着性を両立します。AIサーバー、5G基地局、高速通信機器向け基板など、高速・高周波信号の品質向上に加え、低消費電力化にも貢献します。
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高周波基板向け銅箔で、このような課題はありませんか?
- 1〜5μm領域の極薄銅箔の調達先が見つからない
- 自社調達した銅箔の薄膜化・表面粗さ調整など、追加加工を相談したい
- AIサーバー・5G基板向けに、高周波帯域での信号品質向上と低消費電力化を両立したい
- 低粗度化による低伝送損失化を進めたいが、被着体との密着性も確保したい
DNPの高周波対応マイクロエッチング銅箔は、独自の表面制御技術により、極薄化・低伝送損失・高密着性を両立。
高速通信基板に求められる性能と設計自由度の向上に貢献します。
目次
- 銅箔とは
- DNP高周波対応マイクロエッチング銅箔とは
- DNP高周波対応マイクロエッチング銅箔の特長
- 高周波通信機器・基板用途での適用例
- 極薄銅箔・高周波基板材料に関するよくあるご質問
- サンプル請求・受託加工
銅箔とは
銅箔とは
銅箔とは、銅を原材料として数μm(※)から数百μmの厚さまで薄く加工したシート状の材料で、電子機器や回路基板をはじめとするさまざまな分野で不可欠な役割を担っています。銅は実用金属のなかでも電気伝導性・熱伝導性に優れており、信号ロスの低減や効率的な放熱が求められる電子基板やバッテリー部材などに広く採用されています。
一般に銅箔は、厚さや表面状態、用途などの物理的・化学的特性によって分類されます。用途に応じて数μm単位の極薄タイプから、機械的強度を重視した比較的厚みのあるタイプまで幅広く選択されており、特に近年は高密度実装や軽量化のニーズに対応する超薄型銅箔やフレキシブル銅箔の需要が高まっています。銅箔は極薄であっても柔軟性と加工性に優れ、複雑な形状や曲げ加工が求められる用途にも対応可能です。
また、銅箔の表面には、樹脂材料との密着性やはんだ付け性、電気的特性を向上させるため、用途に応じた表面処理やコーティングが施されます。これにより、多層基板構造や精密電子部品との高い接合信頼性が確保され、電子機器の長期安定動作に貢献します。さらに、銅は100%リサイクル可能な金属資源であり、環境負荷低減や持続可能な製品開発の観点からも注目されています。
銅箔は、プリント基板(PCB)を中心に、電池、センサー、RFIDタグなど幅広い電子デバイスに使用されており、その性能は製造方法や表面処理技術によって大きく左右されます。
※µm(マイクロメートル)= 1cmの1/10000
銅箔の種類と製造方法
銅箔は製造方法により電解銅箔と圧延銅箔に大別されます。
これらの銅箔は、用途や要求特性に応じて選定され、さらに後工程での表面処理や加工によって性能が最適化されます。
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※画像クリックで拡大 |
電解銅箔の製造方法
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圧延銅箔の製造方法
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高周波用途における銅箔の課題
高周波信号を扱う回路では、銅箔の表面状態が電気特性に大きな影響を与えます。高周波領域では表皮効果により電流が導体表面付近に集中するため、表面粗さが大きいほど伝送損失が増加しやすくなります。一方で、樹脂材料との密着性を確保するには、一定の表面粗さが必要となるため、低伝送損失と高密着性は本来トレードオフの関係にあります。このバランスをいかに最適化するかが、高周波用途における銅箔設計の重要な課題となっています。
DNP高周波対応マイクロエッチング銅箔とは
DNP高周波対応マイクロエッチング銅箔は、市販の電解銅箔や圧延銅箔をベースに、DNP独自のマイクロエッチング処理を施すことで、厚さや表面形状を精密に制御した高機能銅箔です。銅箔そのものの製造ではなく、後工程の加工技術によって銅箔の性能を引き出す点が特長であり、高周波用途における課題解決を目的として開発しました。
マイクロエッチングによる銅箔の高機能化
当社のマイクロエッチング処理は、独自の設備・プロセスにて実現した高精度な微細加工技術です。この技術により、銅箔表面を微細なレベルで加工し、表面粗さの制御や厚みの制御も可能です。
DNPでは、他社製の銅箔を基材として用い、その特性を活かしながら、用途に応じた最適な表面状態を実現しています。この加工により、プリント回路基板における配線形成性や信頼性および電気特性において飛躍的な改善につながる銅箔提供に寄与できます。
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高周波用途に適した銅箔設計へのアプローチ
高周波信号を扱う回路では、表皮効果(*)により電流が銅箔表面付近に集中するため、表面粗さが伝送損失に大きく影響します。一方で、樹脂材料との密着性を確保するには、一定の表面粗さが必要となるため、低伝送損失と高密着性は本来トレードオフの関係にあります。DNP高周波対応マイクロエッチング銅箔は、この相反する要求に着目し、マイクロエッチングによる表面制御というアプローチによって、高周波用途に適した銅箔設計を追求しています。
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※一般的に、高周波域の交流電流が金属を流れる場合、電流が時間とともに変化するため、導体内部に磁場が発生し、この磁場が導体の内部に流れる電流を妨げ、導体の表面に集中し中心部に流れにくくなります。その結果、電流が流れる距離が増えるため、交流抵抗値によって電力損失が増加します。この現象を表皮効果と呼びます。 |
DNP高周波対応マイクロエッチング銅箔の特長
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特長1.極薄1μm領域と表面粗さ制御に対応
銅箔が使用される製品や被着体は用途によって異なるため、求められる密着性や信頼性に応じて、適切な表面粗さと厚みを選定する必要があります。
DNPのマイクロエッチング技術では、お客様の要求特性に合わせて、厚みと表面粗さを最適化した銅箔をご提供しています。また、DNPが提供する銅箔だけでなく、調達済み銅箔への追加加工についてもご相談いただけます。
特に、高周波基板用途で需要が高まる1~9μm領域の薄型・極薄銅箔についても対応しており、ご要望に応じた厚み調整や表面粗さの最適化が可能です。
本技術では、銅箔厚みが表面粗さ(Rz)を上回る範囲において、厚みと表面粗さを両立した加工を実現しています。
具体的には、厚み1.0μm~70μmの銅箔に対し、表面粗さRz0.6μm~2.0μmの範囲で調整可能です。
下図のマトリクスは、現在対応可能な表面粗さと銅箔厚みの組み合わせ範囲を示しています。
銅箔の厚みは、一般(9~35μm)、薄型(5~9μm)、極薄(1~5μm)の3グレードに大別され、表に示す対応範囲内で、サブミクロン単位で狙った厚み調整が可能です。なお、35μmを超える厚みについては、主に表面処理による対応となります。
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さらにDNPでは、次世代の高周波基板用途を見据え、1μm以下の極薄銅箔の開発にも取り組んでいます。
極薄化と表面粗さ制御を両立した銅箔をご検討の際は、ぜひご相談ください。
また、高周波用途では、単に薄いだけでなく、低伝送損失と高い密着性を両立できることも重要です。
次項では、DNP独自の表面制御技術による「低伝送損失・高密着を両立」についてご紹介します。
特長2.低伝送損失・高密着を両立
DNP高周波対応マイクロエッチング銅箔の伝送損失特性
DNP高周波対応マイクロエッチング銅箔は、独自のマイクロエッチング処理により、各種樹脂材料との高い密着性を確保しています。表面形状を最適化することでアンカー効果を発現させるとともに、化学的処理を組み合わせることで、安定した接合信頼性を実現しています。
一方で、表面を粗くすることで課題となりやすい高周波域での電気特性についても、DNP独自の表面制御技術により、伝送損失を抑えた特性を実現しています。
実際に、表面粗さRzを0.6μm、1.2μm、2.0μmと変化させた条件においても、いずれのケースでも伝送損失の増加を抑えた測定結果が得られており、表面粗さと電気特性の両立が可能であることを確認しています。
マイクロエッチングによって形成された表面形状は、一般的な粗化銅箔と比較して、電流経路の無駄な伸長や表層抵抗成分の影響を抑制できる構造となっており、密着性を維持しながら低伝送損失を両立しています。
以下に、DNP高周波対応マイクロエッチング銅箔の表面・断面イメージおよび伝送特性の測定結果を示します。
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密着性と低損失を両立する銅箔設計
銅箔の表面粗さは、樹脂材料との密着性や製品信頼性に大きく影響する重要な要素です。一般的に、密着性を高めるために表面を粗くすると、高周波帯域では伝送損失が増加しやすくなるという課題があります。
DNP高周波対応マイクロエッチング銅箔は、独自のマイクロエッチング技術による精密な表面制御により、この相反する要求に対応。高い密着性を確保しながら、伝送損失を抑えた特性を実現しています。これにより、AIサーバーや5G通信機器、高速伝送基板など、高周波信号を扱う用途に適した銅箔ソリューションを提供します。
また、高周波基板では、表面特性だけでなく、銅箔厚みの均一性も信号品質や加工安定性に影響する重要な要素となります。次項では、DNP高周波対応マイクロエッチング銅箔の「高精度な厚み均一制御技術」についてご紹介します。
特長3.高精度な厚み均一制御技術
DNPの高周波対応マイクロエッチング銅箔は、用途に応じた厚み設計だけでなく、長尺・広幅での高い厚み均一性を実現しています。
幅1200mm・全長1000mの銅箔を厚み3μmで製造した場合でも、ロールのスタート・中間・エンドの各測定点において、厚み分布のばらつきは、工程能力の指標として一般的に用いられるσ(シグマ)換算で約0.1程度、実力値としては平均値±0.2μm程度となっています。この高い厚み安定性は、回路特性のばらつきを抑制するだけでなく、後工程であるパターニング加工時のエッチング均一性や歩留まり向上にも寄与します。
以下に、厚み3μmを狙って製造した際の評価結果の一例を示します。
※本データは代表例であり、保証値ではありません。
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このように、銅箔そのものの厚み精度を高いレベルで管理することで、微細パターン形成においても設計通りの加工精度が実現しやすくなります。
次章では、こうした材料特性を活かしたパターニング加工・パターン形成の対応力についてご紹介します。
特長4.大面積・高精度パターニング技術
パターニング加工における対応寸法例
高精度な厚み均一制御により材料ばらつきを抑えたDNPの高周波対応マイクロエッチング銅箔に対し、これまで当社で培ってきたパターニング加工と組み合わせることも可能です。過去には大型ディスプレイ80インチクラスの製品に対応した実績をもち、高い再現性での供給能力を備えています。
具体的には、基材幅1,300mm、絵柄サイズ 最大1300mm幅×1,990mm長の大型サイズ、
ライン幅6μm以上、スペース15μm以上、ピッチ30μm以上、孔径20μm以上の加工に対応しており、設計要件に応じたパターン形成が行えます。なお、対応可能な寸法は、銅箔の厚みや金属種、用途条件によって異なります。
これらの加工は、銅箔単体の供給にとどまらず、材料特性を理解した上での加工提案まで一体で対応できる点が特長です。試作検討や設計初期段階での評価用途などについても、ぜひご相談ください。
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高周波通信機器・基板用途での適用例
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AIサーバー向け高速・高周波対応基板
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5G基地局や高周波通信機器向け基板
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スマートフォン・ウェアラブル機器向けフレキシブルプリント基板(FPC)
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ミリ波レーダー向け高周波対応基板
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極薄銅箔・高周波基板材料に関するよくあるご質問
- 極薄銅箔とは何μmからを指しますか?
- 一般的に銅箔は厚みにより区分され、5μm以下が「極薄銅箔」とされることが多く、用途によっては1μm以下の領域も求められます。
DNPでは、こうした極薄領域に対応しつつ、用途に応じた厚み設計と安定供給を可能にしています。 - 極薄銅箔を使うメリットは何ですか?
- 配線の微細化や高密度実装が可能になるほか、信号伝送時のロス低減や軽量化にも寄与します。特にAIサーバーや5G機器などの高周波用途では、回路性能と設計自由度の両立において重要な材料です。
- 欲しい厚みの極薄銅箔が手に入らないのですが
- DNPでは、マイクロエッチング技術により銅箔をご要望に応じた厚みに薄層化してご提供することが可能です。
- 支給した銅箔を薄層化することは可能でしょうか?
- お客様が入手可能な銅箔をご支給頂き「極薄銅箔」の厚みに加工して仕上げる、ということも可能です。ただし、基材の種類や厚みの条件など、詳細についてはご相談ください。
- 圧延銅箔でも「極薄銅箔」の厚みにできますか?
- DNPのマイクロエッチング技術では、電解銅箔だけでなく、圧延銅箔も5μm以下に「極薄化」できます。指定の基材、ご要望の厚みをご相談ください。
- DNPの銅箔はなぜ低伝送損失と密着性を両立できるのですか?
- マイクロエッチングによって形成される独自の表面形状により、アンカー効果を確保しながらも、電流経路の無駄な伸長を抑制しています。これにより、一般的な粗化銅箔と比較して、被着体との密着性の維持と低伝送損失の両立を実現しています。
- どのような用途に適していますか?
- AIサーバー、5G基地局、高速通信機器、ミリ波レーダーなど、高周波帯域での信号品質が重要な用途に適しています。加えて、FPCなどの薄型・軽量化が求められる用途にも対応可能です。
- サンプル提供は可能ですか?
- 可能です。用途や仕様に応じた最適なご提案を行いますので、まずはお気軽にご相談ください。
極薄銅箔や高周波基板用途に関するご相談、試作評価のご要望にも対応しています。
まずはお気軽にお問い合わせください。
サンプル請求・受託加工
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製品の特性をご評価いただくためのサンプルをご用意しております。また、支給材銅箔への薄膜化・表面粗さ調整などの受託加工についても対応可能です。 |
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