最先端の半導体製造を支える技術を磨き
多様な産業の成長と進化に貢献し続ける

半導体はその誕生以来、さまざまな分野に欠かせない基盤技術として暮らしや社会を支えてきました。そしてIT分野を中心としたテクノロジーの急速な進化にともない、半導体のニーズや重要性はますます大きくなっています。

AIやデジタル技術が世の中の隅々にまで浸透する中で、人と人が互いを尊重し、多様な価値観が共生する社会の実現が求められています。DNPはその根幹となる最先端の半導体製造を支える高品質な製品を開発・提供し、多様な産業や技術の進化を支えています。

DNPは、印刷で培った微細加工技術や精密塗工技術の強みを基盤に、半導体製造を支える世界トップレベルの製品をグローバルに提供しています。特に、半導体関連事業における基幹製品であるフォトマスクでは、トップレベルのシェアを獲得しています。

フォトマスクとは、半導体ウエハー（円盤状の基板）に回路を転写するために使われる原版のこと。ガラスの表面に精密な回路パターンを形成したもので、半導体の製造にとって必須の部材です。DNPには、活字の製作や印刷の版をつくる技術をベースに確立した金属に細かな加工を施すエッチングなど高精度な微細加工技術があり、その積み上げによって1958年にはカラーテレビ用のシャドウマスクの製品化に成功。その金属エッチング技術に写真製版の技術を組み合わせて応用・展開し、1959年にフォトマスク製造に着手。以来、半導体製造の黎明期から国内外のメーカーと連携して市場を牽引してきました。

フォトマスクをはじめとするDNPの半導体事業は、半導体メーカー、装置メーカー、材料メーカー、研究機関などとの強固なパートナーシップにもとづく信頼関係をベースに、継続的な技術開発によって競争力を高めることで成長を続けてきました。パートナーとの対話と協働による技術開発は、さまざまな形で進んでいます。

その一つが、ナノインプリントリソグラフィ（NIL）です。これは微細な回路パターンを形成する先進技術で、DNPの微細加工技術を応用して基板上の樹脂などに回路の版をハンコのように圧着させるというもの。露光（半導体ウエハーへの回路の転写）工程における消費電力を従来より約1/10に低減でき、半導体製造における省エネとカーボンニュートラルの実現に貢献できます。

また、次世代の半導体製造技術として注目されているEUV（Extreme Ultra-Violet：極端紫外線）リソグラフィに対応したフォトマスクの開発は、研究機関や装置メーカーとのパートナーシップにより進められています。EUVリソグラフィは極めて微細な回路を露光する最先端の技術で、より高性能な半導体を供給する上で今後主流になっていくと考えられる方式です。DNPはフォトマスクのさらなる微細化を進め、この新たなニーズに対応していきます。

さらに半導体製造の後工程への参入も見据え、2025年に新光電気工業に出資し、半導体パッケージ向けの部材であるガラスコアの開発も推進。さまざまなシナジー創出によって多様なニーズに幅広く応える全方位戦略を展開し、高品質・高精度な製品を国内外に提供していきます。

DNPは半導体関連の技術・製品の進化に取り組み、生産過程での省エネや半導体自体の消費電力削減に貢献し、環境負荷の低減に寄与していきます。また、現代社会のあらゆる製品に組み込まれている半導体の高性能化を支えることで、人々の暮らしとコミュニケーションがより安心・安全で、より豊かなものになるよう取り組みを続けていきます。
そして、半導体は誰もが公平に必要な情報へアクセスできる社会の基盤となる技術でもあります。DNPは確かな品質と安定した生産技術で高性能な半導体製造を支え、情報格差のない社会の実現を目指します。

自動翻訳や音声認識、感情理解などの技術によってコミュニケーションの壁が取り払われ、人と人との理解や共感がより広がっていく社会。AI・自動車・医療・データセンターなどの分野で安心・安全なインフラが構築され、持続的に機能する社会。
そうした、あるべき世界の姿をAIやデジタル技術の進展によって支え、年齢・性別・国籍・障がいなどの有無を問わず、誰もがスムーズに情報に接し、自分らしく活躍できる環境づくりに貢献していきます。